극자외선(EUV) 리소그래피는 반도체 제조에 필수적이지만, 상당한 전력 소비 문제를 동반합니다. 각 EUV 도구는 약 1,400킬로와트를 소비하며, 이는 작은 도시의 전력 수요에 해당합니다. 2030년까지 EUV 도구가 장착된 모든 팹의 총 전력 …
2024-10-31 11:58 | 댓글: 0개텍사스 인스트루먼트(TI)는 미 상무부와 CHIPS 및 과학법에 따른 최대 16억 달러 규모의 자금 지원 계약을 체결했습니다. 이와 함께 최대 80억 달러의 투자 세액공제도 예상되는 가운데, 이 자금들은 텍사스와 유타의 반도체 …
2024-08-16 12:24 | 댓글: 0개삼성의 3nm GAA 기술 도입은 2022년에 시작되었으며, 5nm 공정에 비해 성능과 효율성의 상당한 향상을 약속했습니다. 그러나 2024년 초 현재, 삼성은 대량 생산에 필요한 최소 기준보다 현재 수율이 3배 낮은 상황에서 …
2024-09-13 08:48 | 댓글: 0개텍사스 인스트루먼트(TI)는 미 상무부와 CHIPS 및 과학법에 따른 최대 16억 달러 규모의 자금 지원 계약을 체결했습니다. 이와 함께 최대 80억 달러의 투자 세액공제도 예상되는 가운데, 이 자금들은 텍사스와 유타의 반도체 …
2024-08-16 12:24 | 댓글: 0개