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중국 과학원(CAS)의 연구자들이 일관된 193nm 빛을 방출하는 고체 상태의 심자외선(DUV) 레이저를 개발했습니다. 이 혁신은 반도체 포토리소그래피에 유용할 수 있으며, 고급 칩 제조를 위한 리소그래피 도구의 제작으로 이어질 수 있습니다. 그러나 …
2025-03-22 13:06 | 댓글: 0개러시아는 ASML의 장비보다 비용이 적고 복잡성이 낮은 EUV(극자외선) 리소그래피 기계를 개발하기 위한 로드맵을 발표했습니다. 새로운 기계는 ASML이 사용하는 13.5nm 표준보다 짧은 11.2nm 파장에서 작동하는 레이저를 활용할 예정입니다. 이러한 변화는 새로운 …
2024-12-18 12:34 | 댓글: 0개