ASML과 Imec는 최신 리소그래피 도구, 특히 High-NA EUV 시스템을 활용하여 2nm 이하 공정 기술을 발전시키기 위한 5년 파트너십을 체결했습니다. 이 협력으로 Imec의 연구자들은 Twinscan NXT, NXE, EXE 리소그래피 시스템과 고급 …

인텔은 오리건에 위치한 D1 개발 팹에서 두 대의 ASML High-NA Twinscan EXE:5000 EUV 리소그래피 도구를 사용하여 30,000개의 웨이퍼를 성공적으로 가공했습니다. 이 이정표는 SPIE 고급 리소그래피 + 패터닝 컨퍼런스에서 발표되었으며, 인텔의 …

로렌스 리버모어 국립 연구소(LLNL)는 빅 아퍼처 튤리움(BAT) 레이저로 알려진 페타와트급 튤리움 레이저를 개발하고 있으며, 이는 현재 극자외선(EUV) 리소그래피에 사용되는 CO2 레이저보다 10배 더 효율적일 것으로 기대됩니다. 이 발전은 반도체 칩을 …

ASML의 CEO는 중국이 5nm 및 3nm 칩을 제한적으로 생산할 수 있을 것이라고 밝혔습니다. 그러나 이는 구형 기술을 활용한 생산에 한정됩니다. 이 발언은 ASML이 최근 시장 혼란을 겪으면서, 인텔과 삼성의 특이한 …

러시아는 2030년까지 자국의 반도체 제조 도구 산업을 발전시키기 위한 포괄적인 계획에 2400억 루블(25억 4천만 달러)을 투자하기로 약속했습니다. 이 프로그램은 외국 반도체 장비를 대체하고 수입 의존도를 줄이는 것을 목표로 하며, 특히 …

한 중국 기업이 미국의 제재를 고려하여 국내 반도체 제조 능력을 향상시키기 위해 두 가지 새로운 심자외선(DUV) 리소그래피 기계를 개발했습니다. 이 기계들은 외국 기술에 대한 의존도를 줄이기 위해 설계되었지만, ASML과 니콘과 …

중국 산업정보기술부의 공식 문서에 따르면, 중국은 반도체 제조 기술에서 미국과 ASML에 약 15년 뒤처져 있을 가능성이 있는 것으로 나타났습니다. 이 문서는 반도체 제조에 필수적인 DUV(심자외선) 리소그래피 기계의 개발 상황을 강조하고 …

중국이 8nm 칩을 생산할 수 있는 자체 DUV(Deep Ultraviolet) 리소그래피 시스템을 개발하며 반도체 제조 기술에서 중요한 진전을 이루고 있는 것으로 전해졌습니다. 이 개발은 다양한 연구소와 기업의 대규모 투자에 힘입은 것으로, …

네덜란드 정부가 ASML의 첨단 침수 리소그래피 시스템에 대한 수출 통제를 시행하기로 한 최근 결정에 대해 중국이 불만을 표명했습니다. 반도체 제조의 핵심 기업인 ASML은 새로운 규제에도 불구하고 중국 기업에 대한 사업 …

러시아 기업들이 2022년과 2023년 동안 ASML의 1990년대 반도체 제조 기계의 부품을 성공적으로 확보했습니다. 이는 유럽의 제재로 인해 러시아에 고급 기계 판매가 금지된 상황에서도 이루어진 일입니다. 이 부품들은 중국의 대리인을 통해 …

네덜란드 정부는 ASML이 중국에서 고급 웨이퍼 제조 장비를 서비스하는 능력을 제한할 계획이며, 이는 중국의 반도체 생산 능력에 상당한 타격을 줄 수 있습니다. 이 금지가 시행될 경우, 중국의 반도체 선두주자인 SMIC는 …

삼성전자가 내년 1분기까지 첫 High-NA EUV 노광 장비를 도입할 것으로 보여, 반도체 산업에 있어 중요한 전환점이 될 것으로 예상됩니다. 이번 도입은 인텔과 TSMC가 이미 ASML로부터 다수의 High-NA EUV 노광 장비를 …

삼성은 2024년 말에서 2025년 초 사이에 첫 번째 고NA(수치 구경) EUV 노광기를 설치할 준비를 하고 있습니다. 이 장비는 0.55 수치 구경을 갖추고 있어, 차세대 공정 기술을 위한 연구 개발에 주로 …

Imec은 ASML과 협력하여 ASML의 Twinscan EXE:5000 EUV 노광기를 이용해 논리 회로와 DRAM 패턴을 처음으로 성공적으로 인쇄하는 중요한 이정표를 달성했습니다. 이 EUV 노광 시스템은 업계 최초의 High-NA EUV 스캐너로, 단일 노광으로 …