이 기사는 TSMC의 N2 공정이 인텔의 18A 제조 기술에 비해 SRAM 밀도에서 갖는 이점을 다룹니다. TSMC의 N2는 2nm급에서 작동하며, 약 0.0175 µm²의 고밀도 SRAM 비트 셀 크기를 자랑하여 38 Mb/mm²의 …
2024-12-04 13:17 | 댓글: 0개TSMC는 2025년 하반기에 N2(2nm급) 제조 공정을 사용한 반도체의 대량 생산을 시작할 준비를 하고 있습니다. 주장된 TSMC 엔지니어의 최근 주장에 따르면, 2nm 공정의 수율이 6% 증가하여 고객에게 수십억 달러의 절감 효과를 …
2024-12-03 12:34 | 댓글: 0개TSMC는 성능, 전력 효율성 및 면적(PPA) 지표가 향상된 2nm급 노드인 N2 공정 기술의 중요한 발전을 발표했습니다. 특히, 새로운 기술은 SRAM 셀의 크기를 줄여 38 Mb/mm²의 밀도를 달성했으며, 이는 이전 노드의 …
2024-10-31 11:38 | 댓글: 0개삼성 파운드리는 텍사스주 테일러에 위치한 반도체 제조 공장에서의 칩 대량 생산을 2024년 하반기에서 2026년으로 연기했다고 전해졌다. 이는 심각한 수율 문제 때문인 것으로 보인다. 보도에 따르면, 삼성의 SF3(3nm급) 공정 기술의 수율은 …
2024-09-12 14:51 | 댓글: 0개미국 상무부 산업안전국(Bureau of Industry and Security, BIS)은 중국 및 기타 적대 국가의 첨단 컴퓨팅 기술 접근을 제한하기 위한 새로운 수출 통제를 제안했습니다. 이 통제는 게이트 올 어라운드 트랜지스터(Gate-All-Around Transistors, …
2024-09-06 10:57 | 댓글: 0개