Rapidus는 일본의 IIM-1 시설에서 2nm 게이트 올 어라운드(GAA) 트랜지스터 구조를 갖춘 시험 웨이퍼의 프로토타입 제작을 시작했습니다. 회사는 초기 시험 웨이퍼가 예상되는 전기적 특성을 달성하고 있으며, 이는 제조 도구의 성공적인 작동과 …
2025-07-18 09:21 | 댓글: 0개ASML의 CEO인 크리스토프 푸케(Christophe Fouquet)는 SMIC와 화웨이와 같은 중국 기업들이 최근 발전을 이루었음에도 불구하고, 여전히 인텔, TSMC, 삼성과 같은 선도적인 반도체 제조업체들에 비해 10~15년 뒤쳐져 있다고 밝혔습니다. 그는 극자외선(EUV) 리소그래피 …
2024-12-25 14:52 | 댓글: 0개극자외선(EUV) 리소그래피는 반도체 제조에 필수적이지만, 상당한 전력 소비 문제를 동반합니다. 각 EUV 도구는 약 1,400킬로와트를 소비하며, 이는 작은 도시의 전력 수요에 해당합니다. 2030년까지 EUV 도구가 장착된 모든 팹의 총 전력 …
2024-10-31 11:58 | 댓글: 0개TSMC의 차세대 N2(2nm급) 제조 기술은 기존 N3(3nm급) 공정에 비해 상당한 이점을 제공할 것으로 예상되며, 여기에는 나노시트 게이트 올 어라운드(GAA) 트랜지스터와 나노플렉스(NanoFlex) 기술의 채택이 포함됩니다. 그러나 N2 기술을 사용하는 300mm 웨이퍼의 …
2024-10-04 14:49 | 댓글: 0개Rapidus Corporation은 일본 북부에 2나노미터(nm) 반도체 전문 완전 자동화 생산 공장을 개발하고 있습니다. 이 공장은 첨단 인공지능(AI) 애플리케이션용 2나노미터 반도체 생산에 특화될 예정입니다. Rapidus는 로봇과 인공지능을 활용해 제조 공정을 효율화할 …
2024-08-10 14:10 | 댓글: 0개임엑스는 ASML과 협력하여 0.55 수치구경(NA)을 지원하는 트윈스캔 EXE:5000 EUV 리소그래피 툴을 이용해 업계 최초로 로직 및 DRAM 구조물을 성공적으로 패턴화했습니다. 이는 마이크로일렉트로닉스 생산에 있어 중요한 이정표를 마련한 성과로, 고해상도 패터닝 …
2024-08-07 15:41 | 댓글: 0개츠무로 신타케 교수는 오키나와 과학기술 대학원 대학(Okinawa Institute of Science and Technology, OIST)에서 전통적인 EUV 리소그래피 기술을 크게 단순화한 새로운 시스템을 소개했습니다. 이 혁신적인 시스템은 기존 6개의 미러 구성 대신 …
2024-08-06 12:20 | 댓글: 0개미국 정부는 중국 반도체 기업 18개에 제재를 가했지만, SMIC, YMTC, CXMT 등 많은 업체들이 여전히 제재 대상에서 제외된 '화이트 리스트'에 남아있습니다. 제재에도 불구하고 SMIC와 CXMT는 낮은 세대의 반도체 생산 장비를 …
2024-07-31 11:34 | 댓글: 0개ASML의 최고경영자 Christophe Fouquet는 중국의 반도체 생산이 글로벌 수요 충당에 있어 핵심적인 역할을 한다고 강조했습니다. 하지만 중국은 미국 대비 첨단 칩 기술이 10년 뒤쳐져 있다고 지적했습니다. Fouquet에 따르면, 유럽은 현재 …
2024-08-19 07:25 | 댓글: 0개SK 하이닉스는 수직 채널 트랜지스터(VCT) 기술을 적용한 새로운 3D DRAM 기술을 통해 생산 비용을 절반으로 줄일 수 있다고 발표했습니다. 이는 주로 극자외선(EUV) 리소그래피 공정 도입에 힘입은 것으로 보입니다. 이러한 진보는 …
2024-08-16 17:44 | 댓글: 0개SK하이닉스는 자사의 차세대 3D DRAM 기술이 EUV(극자외선 리소그래피) 공정 비용을 절반 수준으로 낮출 수 있다고 발표했습니다. 이는 서재욱 연구원이 한 컨퍼런스에서 밝힌 내용으로, DRAM 제조업체들이 10나노급 6세대 DRAM(1c DRAM)으로 전환하면서 …
2024-08-16 06:44 | 댓글: 0개Rapidus Corporation은 일본 북부에 2나노미터(nm) 반도체 전문 완전 자동화 생산 공장을 개발하고 있습니다. 이 공장은 첨단 인공지능(AI) 애플리케이션용 2나노미터 반도체 생산에 특화될 예정입니다. Rapidus는 로봇과 인공지능을 활용해 제조 공정을 효율화할 …
2024-08-10 14:10 | 댓글: 0개임엑스는 ASML과 협력하여 0.55 수치구경(NA)을 지원하는 트윈스캔 EXE:5000 EUV 리소그래피 툴을 이용해 업계 최초로 로직 및 DRAM 구조물을 성공적으로 패턴화했습니다. 이는 마이크로일렉트로닉스 생산에 있어 중요한 이정표를 마련한 성과로, 고해상도 패터닝 …
2024-08-07 15:41 | 댓글: 0개츠무로 신타케 교수는 오키나와 과학기술 대학원 대학(Okinawa Institute of Science and Technology, OIST)에서 전통적인 EUV 리소그래피 기술을 크게 단순화한 새로운 시스템을 소개했습니다. 이 혁신적인 시스템은 기존 6개의 미러 구성 대신 …
2024-08-06 12:20 | 댓글: 0개인텔은 심각한 위기에 처했습니다. 2020년 이후 매출이 240억 달러 감소했지만 직원 수는 10% 늘어나면서 불균형이 발생했습니다. 이에 따라 인텔은 12만 6천여 명의 전체 직원 중 최대 2만 명을 감축하는 대규모 …
2024-08-02 14:56 | 댓글: 0개미국 정부는 중국 반도체 기업 18개에 제재를 가했지만, SMIC, YMTC, CXMT 등 많은 업체들이 여전히 제재 대상에서 제외된 '화이트 리스트'에 남아있습니다. 제재에도 불구하고 SMIC와 CXMT는 낮은 세대의 반도체 생산 장비를 …
2024-07-31 11:34 | 댓글: 0개