ASML의 CEO인 크리스토프 푸케(Christophe Fouquet)는 SMIC와 화웨이와 같은 중국 기업들이 최근 발전을 이루었음에도 불구하고, 여전히 인텔, TSMC, 삼성과 같은 선도적인 반도체 제조업체들에 비해 10~15년 뒤쳐져 있다고 밝혔습니다. 그는 극자외선(EUV) 리소그래피 …

극자외선(EUV) 리소그래피는 반도체 제조에 필수적이지만, 상당한 전력 소비 문제를 동반합니다. 각 EUV 도구는 약 1,400킬로와트를 소비하며, 이는 작은 도시의 전력 수요에 해당합니다. 2030년까지 EUV 도구가 장착된 모든 팹의 총 전력 …

TSMC의 차세대 N2(2nm급) 제조 기술은 기존 N3(3nm급) 공정에 비해 상당한 이점을 제공할 것으로 예상되며, 여기에는 나노시트 게이트 올 어라운드(GAA) 트랜지스터와 나노플렉스(NanoFlex) 기술의 채택이 포함됩니다. 그러나 N2 기술을 사용하는 300mm 웨이퍼의 …

Rapidus Corporation은 일본 북부에 2나노미터(nm) 반도체 전문 완전 자동화 생산 공장을 개발하고 있습니다. 이 공장은 첨단 인공지능(AI) 애플리케이션용 2나노미터 반도체 생산에 특화될 예정입니다. Rapidus는 로봇과 인공지능을 활용해 제조 공정을 효율화할 …

임엑스는 ASML과 협력하여 0.55 수치구경(NA)을 지원하는 트윈스캔 EXE:5000 EUV 리소그래피 툴을 이용해 업계 최초로 로직 및 DRAM 구조물을 성공적으로 패턴화했습니다. 이는 마이크로일렉트로닉스 생산에 있어 중요한 이정표를 마련한 성과로, 고해상도 패터닝 …

츠무로 신타케 교수는 오키나와 과학기술 대학원 대학(Okinawa Institute of Science and Technology, OIST)에서 전통적인 EUV 리소그래피 기술을 크게 단순화한 새로운 시스템을 소개했습니다. 이 혁신적인 시스템은 기존 6개의 미러 구성 대신 …

미국 정부는 중국 반도체 기업 18개에 제재를 가했지만, SMIC, YMTC, CXMT 등 많은 업체들이 여전히 제재 대상에서 제외된 '화이트 리스트'에 남아있습니다. 제재에도 불구하고 SMIC와 CXMT는 낮은 세대의 반도체 생산 장비를 …