태그: EUV lithography

TSMC의 차세대 N2(2nm급) 제조 기술은 기존 N3(3nm급) 공정에 비해 상당한 이점을 제공할 것으로 예상되며, 여기에는 나노시트 게이트 올 어라운드(GAA) 트랜지스터와 나노플렉스(NanoFlex) 기술의 채택이 포함됩니다. 그러나 N2 기술을 사용하는 300mm 웨이퍼의 …

2024-10-04 14:49 | 댓글: 0개

코닝이 차세대 저-NA 및 고-NA 극자외선 리소그래피 시스템을 위해 설계된 초저팽창 소재인 극한 ULE 유리를 공개했습니다. 이 혁신적인 소재는 현대 반도체 제조 공정에 필수적인 고급 포토마스크와 리소그래피 미러에 사용될 것으로 …

2024-10-02 14:37 | 댓글: 0개

대만 국가과학위원회 위원장 우청원(Wu Cheng-wen)은 중국의 반도체 산업이 대만의 TSMC보다 10년 이상 뒤처져 있다고 주장했습니다. 일부 추정치는 3년의 격차를 제시하지만, 우 위원장은 TSMC의 2nm 기술 발전이 중국이 7nm 칩만 생산할 …

2024-10-01 16:38 | 댓글: 0개

대만 국가과학위원회 의장인 Cheng-Wen Wu는 중국이 반도체 제조 기술에서 대만의 TSMC보다 약 10년 뒤쳐져 있다고 밝혔습니다. 이 주장은 화웨이의 최신 스마트폰이 중국의 칩 기술 발전을 나타낸다는 추측에 대한 답변으로, 입법 …

2024-10-01 04:22 | 댓글: 0개

상하이 마이크로일렉트로닉스 장비(SMEE)가 극자외선(EUV) 리소그래피 기계에 대한 특허를 출원하며, 중국의 EUV 반도체 제조 능력 개발에 중요한 이정표가 되었습니다. 2023년 3월에 제출된 이 특허는 EUV 도구의 핵심 구성 요소, 특히 레이저로 …

2024-09-13 14:45 | 댓글: 0개

TSMC는 이달 말 대만 신주에 위치한 연구개발 센터에서 첫 번째 하이-NA EUV 리소그래피 장비인 ASML Twinscan EXE:5000의 설치를 시작할 예정입니다. 이 결정은 TSMC가 이미 하이-NA EUV 기계를 연구 및 개발에 …

2024-09-10 12:19 | 댓글: 0개

인텔이 일본의 첨단산업과학기술연구소(National Institute of Advanced Industrial Science and Technology, AIST)와 협력하여 첨단 반도체 생산에 전념하는 새로운 연구개발 센터를 설립합니다. 이 시설은 3년에서 5년 내에 운영될 예정이며, 극자외선(EUV) 리소그래피를 활용한 …

2024-09-03 13:07 | 댓글: 0개

SK 하이닉스가 10-nm 클래스에서 이정표를 달성한 첫 번째 제조업체라고 주장하며 1c 세대 DDR5 DRAM 칩의 개발 완료를 발표했습니다. 16 기가비트(2 GB)의 용량을 가진 이 칩의 대량 생산은 올해 말 시작될 …

2024-08-29 16:57 | 댓글: 0개

ASML의 최고경영자 Christophe Fouquet는 중국의 반도체 생산이 글로벌 수요 충당에 있어 핵심적인 역할을 한다고 강조했습니다. 하지만 중국은 미국 대비 첨단 칩 기술이 10년 뒤쳐져 있다고 지적했습니다. Fouquet에 따르면, 유럽은 현재 …

2024-08-19 07:25 | 댓글: 0개

SK 하이닉스는 수직 채널 트랜지스터(VCT) 기술을 적용한 새로운 3D DRAM 기술을 통해 생산 비용을 절반으로 줄일 수 있다고 발표했습니다. 이는 주로 극자외선(EUV) 리소그래피 공정 도입에 힘입은 것으로 보입니다. 이러한 진보는 …

2024-08-16 17:44 | 댓글: 0개

SK하이닉스는 자사의 차세대 3D DRAM 기술이 EUV(극자외선 리소그래피) 공정 비용을 절반 수준으로 낮출 수 있다고 발표했습니다. 이는 서재욱 연구원이 한 컨퍼런스에서 밝힌 내용으로, DRAM 제조업체들이 10나노급 6세대 DRAM(1c DRAM)으로 전환하면서 …

2024-08-16 06:44 | 댓글: 0개

Rapidus Corporation은 일본 북부에 2나노미터(nm) 반도체 전문 완전 자동화 생산 공장을 개발하고 있습니다. 이 공장은 첨단 인공지능(AI) 애플리케이션용 2나노미터 반도체 생산에 특화될 예정입니다. Rapidus는 로봇과 인공지능을 활용해 제조 공정을 효율화할 …

2024-08-10 14:10 | 댓글: 0개

임엑스는 ASML과 협력하여 0.55 수치구경(NA)을 지원하는 트윈스캔 EXE:5000 EUV 리소그래피 툴을 이용해 업계 최초로 로직 및 DRAM 구조물을 성공적으로 패턴화했습니다. 이는 마이크로일렉트로닉스 생산에 있어 중요한 이정표를 마련한 성과로, 고해상도 패터닝 …

2024-08-07 15:41 | 댓글: 0개

츠무로 신타케 교수는 오키나와 과학기술 대학원 대학(Okinawa Institute of Science and Technology, OIST)에서 전통적인 EUV 리소그래피 기술을 크게 단순화한 새로운 시스템을 소개했습니다. 이 혁신적인 시스템은 기존 6개의 미러 구성 대신 …

2024-08-06 12:20 | 댓글: 0개

인텔은 심각한 위기에 처했습니다. 2020년 이후 매출이 240억 달러 감소했지만 직원 수는 10% 늘어나면서 불균형이 발생했습니다. 이에 따라 인텔은 12만 6천여 명의 전체 직원 중 최대 2만 명을 감축하는 대규모 …

2024-08-02 14:56 | 댓글: 0개

미국 정부는 중국 반도체 기업 18개에 제재를 가했지만, SMIC, YMTC, CXMT 등 많은 업체들이 여전히 제재 대상에서 제외된 '화이트 리스트'에 남아있습니다. 제재에도 불구하고 SMIC와 CXMT는 낮은 세대의 반도체 생산 장비를 …

2024-07-31 11:34 | 댓글: 0개