Rapidus는 일본의 IIM-1 시설에서 2nm 게이트 올 어라운드(GAA) 트랜지스터 구조를 갖춘 시험 웨이퍼의 프로토타입 제작을 시작했습니다. 회사는 초기 시험 웨이퍼가 예상되는 전기적 특성을 달성하고 있으며, 이는 제조 도구의 성공적인 작동과 …
2025-07-18 09:21 | 댓글: 0개ASML의 CEO인 크리스토프 푸케(Christophe Fouquet)는 SMIC와 화웨이와 같은 중국 기업들이 최근 발전을 이루었음에도 불구하고, 여전히 인텔, TSMC, 삼성과 같은 선도적인 반도체 제조업체들에 비해 10~15년 뒤쳐져 있다고 밝혔습니다. 그는 극자외선(EUV) 리소그래피 …
2024-12-25 14:52 | 댓글: 0개극자외선(EUV) 리소그래피는 반도체 제조에 필수적이지만, 상당한 전력 소비 문제를 동반합니다. 각 EUV 도구는 약 1,400킬로와트를 소비하며, 이는 작은 도시의 전력 수요에 해당합니다. 2030년까지 EUV 도구가 장착된 모든 팹의 총 전력 …
2024-10-31 11:58 | 댓글: 0개TSMC의 차세대 N2(2nm급) 제조 기술은 기존 N3(3nm급) 공정에 비해 상당한 이점을 제공할 것으로 예상되며, 여기에는 나노시트 게이트 올 어라운드(GAA) 트랜지스터와 나노플렉스(NanoFlex) 기술의 채택이 포함됩니다. 그러나 N2 기술을 사용하는 300mm 웨이퍼의 …
2024-10-04 14:49 | 댓글: 0개Rapidus Corporation은 일본 북부에 2나노미터(nm) 반도체 전문 완전 자동화 생산 공장을 개발하고 있습니다. 이 공장은 첨단 인공지능(AI) 애플리케이션용 2나노미터 반도체 생산에 특화될 예정입니다. Rapidus는 로봇과 인공지능을 활용해 제조 공정을 효율화할 …
2024-08-10 14:10 | 댓글: 0개임엑스는 ASML과 협력하여 0.55 수치구경(NA)을 지원하는 트윈스캔 EXE:5000 EUV 리소그래피 툴을 이용해 업계 최초로 로직 및 DRAM 구조물을 성공적으로 패턴화했습니다. 이는 마이크로일렉트로닉스 생산에 있어 중요한 이정표를 마련한 성과로, 고해상도 패터닝 …
2024-08-07 15:41 | 댓글: 0개츠무로 신타케 교수는 오키나와 과학기술 대학원 대학(Okinawa Institute of Science and Technology, OIST)에서 전통적인 EUV 리소그래피 기술을 크게 단순화한 새로운 시스템을 소개했습니다. 이 혁신적인 시스템은 기존 6개의 미러 구성 대신 …
2024-08-06 12:20 | 댓글: 0개미국 정부는 중국 반도체 기업 18개에 제재를 가했지만, SMIC, YMTC, CXMT 등 많은 업체들이 여전히 제재 대상에서 제외된 '화이트 리스트'에 남아있습니다. 제재에도 불구하고 SMIC와 CXMT는 낮은 세대의 반도체 생산 장비를 …
2024-07-31 11:34 | 댓글: 0개TSMC의 CEO인 C.C. Wei는 미국에서 최첨단 제조 공정을 확대하는 데 있어 물류 문제와 관료적 장벽으로 인한 어려움을 강조했습니다. 대만의 규정이 이제 TSMC가 최신 공정 기술을 수출할 수 있도록 허용하고 있지만, …
2025-01-17 14:54 | 댓글: 0개ASML의 CEO인 크리스토프 푸케(Christophe Fouquet)는 SMIC와 화웨이와 같은 중국 기업들이 최근 발전을 이루었음에도 불구하고, 여전히 인텔, TSMC, 삼성과 같은 선도적인 반도체 제조업체들에 비해 10~15년 뒤쳐져 있다고 밝혔습니다. 그는 극자외선(EUV) 리소그래피 …
2024-12-25 14:52 | 댓글: 0개Rapidus는 홋카이도 치토세에 위치한 혁신적 제조 통합(IIM-1) 시설에 ASML의 트윈스캔 NXE:3800E EUV 리소그래피 시스템 설치를 성공적으로 시작했습니다. 이는 일본 반도체 산업에 중요한 이정표로, EUV 기반 공정 기술을 사용하여 로직 칩을 …
2024-12-19 15:18 | 댓글: 0개러시아는 ASML의 장비보다 비용이 적고 복잡성이 낮은 EUV(극자외선) 리소그래피 기계를 개발하기 위한 로드맵을 발표했습니다. 새로운 기계는 ASML이 사용하는 13.5nm 표준보다 짧은 11.2nm 파장에서 작동하는 레이저를 활용할 예정입니다. 이러한 변화는 새로운 …
2024-12-18 12:34 | 댓글: 0개네덜란드의 선도적인 기술 회사인 ASML의 전 직원이 중요한 마이크로칩 문서를 절도한 혐의로 기소되었습니다. 이 개인은 43세의 엔지니어로, 스파이 활동과 이 문서를 러시아의 칩 생산을 강화하기 위해 판매한 혐의를 받고 있으며, …
2024-12-08 17:07 | 댓글: 0개내구성이 뛰어난 유리로 잘 알려진 Corning이 반도체 산업, 특히 포토마스크 생산에서 중요한 진전을 이루고 있습니다. 이 회사는 미국 상무부와 3,200만 달러를 CHIPS 및 과학법 기금에서 지원받기 위한 예비 계약을 체결했습니다. …
2024-11-09 15:17 | 댓글: 0개인텔의 CEO인 팻 겔싱어는 TSMC와의 전략적 파트너십을 강조하며, TSMC가 인텔의 코어 울트라 200V 프로세서(코드명: 루나 레이크) 생산에 중요한 역할을 하고 있다고 밝혔습니다. 인텔이 반도체 생산을 자사 시설로 되돌리려는 목표에도 불구하고, …
2024-11-07 15:37 | 댓글: 0개대만 반도체 제조 회사(TSMC)는 2024년 말까지 ASML로부터 고해상도 NA EUV 리소그래피 장비의 첫 배치를 수령할 예정이며, 이는 반도체 제조 기술의 중요한 발전을 의미합니다. TSMC는 삼성과 인텔과 같은 주요 경쟁자들에 맞서 …
2024-11-01 13:38 | 댓글: 0개대만 반도체 제조 회사(TSMC)는 2024년 말까지 ASML의 고-NA EUV 리소그래피 장비의 첫 배치를 수령할 예정이며, 이는 반도체 제조 기술의 중요한 발전을 의미합니다. TSMC는 삼성과 Intel과 같은 주요 경쟁자들에 맞서 경쟁력을 …
2024-11-01 13:38 | 댓글: 0개바이든 행정부는 뉴욕주 Albany에 국가 반도체 기술 센터(National Semiconductor Technology Center, NSTC)를 설립하기 위해 8억 2500만 달러를 투자한다고 발표했습니다. 이 시설은 반도체 기술 혁신을 촉진하고, 숙련된 인력을 양성하며, 민간 부문과 …
2024-10-31 14:47 | 댓글: 0개극자외선(EUV) 리소그래피는 반도체 제조에 필수적이지만, 상당한 전력 소비 문제를 동반합니다. 각 EUV 도구는 약 1,400킬로와트를 소비하며, 이는 작은 도시의 전력 수요에 해당합니다. 2030년까지 EUV 도구가 장착된 모든 팹의 총 전력 …
2024-10-31 11:58 | 댓글: 0개삼성은 텍사스 테일러에 위치한 170억 달러 규모의 반도체 공장을 위한 장비 구매를 연기했습니다. 이는 주로 해당 시설의 고객 확보에 어려움을 겪고 있기 때문입니다. 공장의 생산은 원래 2026년에 시작될 예정이었으나, 몇 …
2024-10-18 15:29 | 댓글: 0개TSMC의 차세대 N2(2nm급) 제조 기술은 기존 N3(3nm급) 공정에 비해 상당한 이점을 제공할 것으로 예상되며, 여기에는 나노시트 게이트 올 어라운드(GAA) 트랜지스터와 나노플렉스(NanoFlex) 기술의 채택이 포함됩니다. 그러나 N2 기술을 사용하는 300mm 웨이퍼의 …
2024-10-04 14:49 | 댓글: 0개코닝이 차세대 저-NA 및 고-NA 극자외선 리소그래피 시스템을 위해 설계된 초저팽창 소재인 극한 ULE 유리를 공개했습니다. 이 혁신적인 소재는 현대 반도체 제조 공정에 필수적인 고급 포토마스크와 리소그래피 미러에 사용될 것으로 …
2024-10-02 14:37 | 댓글: 0개대만 국가과학위원회 위원장 우청원(Wu Cheng-wen)은 중국의 반도체 산업이 대만의 TSMC보다 10년 이상 뒤처져 있다고 주장했습니다. 일부 추정치는 3년의 격차를 제시하지만, 우 위원장은 TSMC의 2nm 기술 발전이 중국이 7nm 칩만 생산할 …
2024-10-01 16:38 | 댓글: 0개대만 국가과학위원회 의장인 Cheng-Wen Wu는 중국이 반도체 제조 기술에서 대만의 TSMC보다 약 10년 뒤쳐져 있다고 밝혔습니다. 이 주장은 화웨이의 최신 스마트폰이 중국의 칩 기술 발전을 나타낸다는 추측에 대한 답변으로, 입법 …
2024-10-01 04:22 | 댓글: 0개상하이 마이크로일렉트로닉스 장비(SMEE)가 극자외선(EUV) 리소그래피 기계에 대한 특허를 출원하며, 중국의 EUV 반도체 제조 능력 개발에 중요한 이정표가 되었습니다. 2023년 3월에 제출된 이 특허는 EUV 도구의 핵심 구성 요소, 특히 레이저로 …
2024-09-13 14:45 | 댓글: 0개TSMC는 이달 말 대만 신주에 위치한 연구개발 센터에서 첫 번째 하이-NA EUV 리소그래피 장비인 ASML Twinscan EXE:5000의 설치를 시작할 예정입니다. 이 결정은 TSMC가 이미 하이-NA EUV 기계를 연구 및 개발에 …
2024-09-10 12:19 | 댓글: 0개인텔이 일본의 첨단산업과학기술연구소(National Institute of Advanced Industrial Science and Technology, AIST)와 협력하여 첨단 반도체 생산에 전념하는 새로운 연구개발 센터를 설립합니다. 이 시설은 3년에서 5년 내에 운영될 예정이며, 극자외선(EUV) 리소그래피를 활용한 …
2024-09-03 13:07 | 댓글: 0개SK 하이닉스가 10-nm 클래스에서 이정표를 달성한 첫 번째 제조업체라고 주장하며 1c 세대 DDR5 DRAM 칩의 개발 완료를 발표했습니다. 16 기가비트(2 GB)의 용량을 가진 이 칩의 대량 생산은 올해 말 시작될 …
2024-08-29 16:57 | 댓글: 0개