TSMC는 애리조나의 Fab 21 시설에서 대만의 공장과 유사한 생산 수율을 성공적으로 달성했다고 보고했습니다. 이는 회사의 미국 내 대규모 프로젝트가 이전의 도전에도 불구하고 순조롭게 진행되고 있음을 나타냅니다. 초기에는 2024년에 본격 생산을 …

Imec은 ASML과 협력하여 ASML의 Twinscan EXE:5000 EUV 노광기를 이용해 논리 회로와 DRAM 패턴을 처음으로 성공적으로 인쇄하는 중요한 이정표를 달성했습니다. 이 EUV 노광 시스템은 업계 최초의 High-NA EUV 스캐너로, 단일 노광으로 …

츠무로 신타케 교수는 오키나와 과학기술 대학원 대학(Okinawa Institute of Science and Technology, OIST)에서 전통적인 EUV 리소그래피 기술을 크게 단순화한 새로운 시스템을 소개했습니다. 이 혁신적인 시스템은 기존 6개의 미러 구성 대신 …