인텔은 Intel Foundry Direct 2025 컨퍼런스에서 High-NA EUV 기술에 대한 전략을 발표했습니다. 이 회사는 다가오는 14A 공정 노드에 High-NA EUV를 사용할 가능성을 탐색하고 있지만, 완전히 의존하지 않고 대신 표준 Low-NA …

인텔은 High-NA EUV 리소그래피에서 상당한 발전을 이루었으며, 두 대의 High-NA 리소그래피 기계를 설치하고 30,000개의 웨이퍼를 처리했습니다. 그러나 이 기술은 도구당 3억 8천만 달러에서 4억 달러에 달하는 높은 비용과 포토마스크 공급망 …

화웨이와 연계된 스타트업 SiCarrier가 반도체 제조 장비 분야에서 중요한 플레이어로 떠오르며, Semicon China에서 포괄적인 도구 카탈로그를 선보였습니다. 4년 전 선전에서 설립된 SiCarrier는 ASML 및 Applied Materials와 같은 기존의 선두주자들과 경쟁하기 …

ASML의 CEO인 크리스토프 푸케(Christophe Fouquet)는 SMIC와 화웨이와 같은 중국 기업들이 최근 발전을 이루었음에도 불구하고, 여전히 인텔, TSMC, 삼성과 같은 선도적인 반도체 제조업체들에 비해 10~15년 뒤쳐져 있다고 밝혔습니다. 그는 극자외선(EUV) 리소그래피 …

네덜란드 정부는 ASML이 중국에서 고급 웨이퍼 제조 장비를 서비스하는 능력을 제한할 계획이며, 이는 중국의 반도체 생산 능력에 상당한 타격을 줄 수 있습니다. 이 금지가 시행될 경우, 중국의 반도체 선두주자인 SMIC는 …

중국 기업들이 반도체 생산 장비에 대한 투자를 대폭 늘리며, 올해 첫 7개월 동안 거의 260억 달러를 지출한 것으로 블룸버그가 보도했습니다. 이 지출은 2021년의 이전 최고치를 넘어서는 새로운 기록을 세우며, 이들 …

삼성은 2024년 말에서 2025년 초 사이에 첫 번째 고NA(수치 구경) EUV 노광기를 설치할 준비를 하고 있습니다. 이 장비는 0.55 수치 구경을 갖추고 있어, 차세대 공정 기술을 위한 연구 개발에 주로 …

Imec은 ASML과 협력하여 ASML의 Twinscan EXE:5000 EUV 노광기를 이용해 논리 회로와 DRAM 패턴을 처음으로 성공적으로 인쇄하는 중요한 이정표를 달성했습니다. 이 EUV 노광 시스템은 업계 최초의 High-NA EUV 스캐너로, 단일 노광으로 …

임엑스는 ASML과 협력하여 0.55 수치구경(NA)을 지원하는 트윈스캔 EXE:5000 EUV 리소그래피 툴을 이용해 업계 최초로 로직 및 DRAM 구조물을 성공적으로 패턴화했습니다. 이는 마이크로일렉트로닉스 생산에 있어 중요한 이정표를 마련한 성과로, 고해상도 패터닝 …

미국 정부는 중국 반도체 기업에 대한 반도체 제조 장비 수출 제한을 강화하는 새로운 규제를 준비하고 있습니다. 다만 일본, 네덜란드, 한국 등 주요 동맹국에 대해서는 예외를 허용할 계획입니다. 이번 규제는 기존의 …