인텔은 High-NA EUV 리소그래피에서 상당한 발전을 이루었으며, 두 대의 High-NA 리소그래피 기계를 설치하고 30,000개의 웨이퍼를 처리했습니다. 그러나 이 기술은 도구당 3억 8천만 달러에서 4억 달러에 달하는 높은 비용과 포토마스크 공급망 …
2025-04-16 16:36 | 댓글: 0개화웨이와 연계된 스타트업 SiCarrier가 반도체 제조 장비 분야에서 중요한 플레이어로 떠오르며, Semicon China에서 포괄적인 도구 카탈로그를 선보였습니다. 4년 전 선전에서 설립된 SiCarrier는 ASML 및 Applied Materials와 같은 기존의 선두주자들과 경쟁하기 …
2025-03-27 11:28 | 댓글: 0개ASML의 CEO인 크리스토프 푸케(Christophe Fouquet)는 SMIC와 화웨이와 같은 중국 기업들이 최근 발전을 이루었음에도 불구하고, 여전히 인텔, TSMC, 삼성과 같은 선도적인 반도체 제조업체들에 비해 10~15년 뒤쳐져 있다고 밝혔습니다. 그는 극자외선(EUV) 리소그래피 …
2024-12-25 14:52 | 댓글: 0개네덜란드 정부는 ASML이 중국에서 고급 웨이퍼 제조 장비를 서비스하는 능력을 제한할 계획이며, 이는 중국의 반도체 생산 능력에 상당한 타격을 줄 수 있습니다. 이 금지가 시행될 경우, 중국의 반도체 선두주자인 SMIC는 …
2024-08-29 16:03 | 댓글: 0개중국 기업들이 반도체 생산 장비에 대한 투자를 대폭 늘리며, 올해 첫 7개월 동안 거의 260억 달러를 지출한 것으로 블룸버그가 보도했습니다. 이 지출은 2021년의 이전 최고치를 넘어서는 새로운 기록을 세우며, 이들 …
2024-08-22 12:46 | 댓글: 0개삼성은 2024년 말에서 2025년 초 사이에 첫 번째 고NA(수치 구경) EUV 노광기를 설치할 준비를 하고 있습니다. 이 장비는 0.55 수치 구경을 갖추고 있어, 차세대 공정 기술을 위한 연구 개발에 주로 …
2024-08-15 15:40 | 댓글: 0개Imec은 ASML과 협력하여 ASML의 Twinscan EXE:5000 EUV 노광기를 이용해 논리 회로와 DRAM 패턴을 처음으로 성공적으로 인쇄하는 중요한 이정표를 달성했습니다. 이 EUV 노광 시스템은 업계 최초의 High-NA EUV 스캐너로, 단일 노광으로 …
2024-08-08 14:00 | 댓글: 0개임엑스는 ASML과 협력하여 0.55 수치구경(NA)을 지원하는 트윈스캔 EXE:5000 EUV 리소그래피 툴을 이용해 업계 최초로 로직 및 DRAM 구조물을 성공적으로 패턴화했습니다. 이는 마이크로일렉트로닉스 생산에 있어 중요한 이정표를 마련한 성과로, 고해상도 패터닝 …
2024-08-07 15:41 | 댓글: 0개미국 정부는 중국 반도체 기업에 대한 반도체 제조 장비 수출 제한을 강화하는 새로운 규제를 준비하고 있습니다. 다만 일본, 네덜란드, 한국 등 주요 동맹국에 대해서는 예외를 허용할 계획입니다. 이번 규제는 기존의 …
2024-07-31 14:53 | 댓글: 0개한 중국 기업이 미국의 제재를 고려하여 국내 반도체 제조 능력을 향상시키기 위해 두 가지 새로운 심자외선(DUV) 리소그래피 기계를 개발했습니다. 이 기계들은 외국 기술에 대한 의존도를 줄이기 위해 설계되었지만, ASML과 니콘과 …
2024-09-16 17:12 | 댓글: 0개중국 산업정보기술부의 공식 문서에 따르면, 중국은 반도체 제조 기술에서 미국과 ASML에 약 15년 뒤처져 있을 가능성이 있는 것으로 나타났습니다. 이 문서는 반도체 제조에 필수적인 DUV(심자외선) 리소그래피 기계의 개발 상황을 강조하고 …
2024-09-16 11:00 | 댓글: 0개중국이 8nm 칩을 생산할 수 있는 자체 DUV(Deep Ultraviolet) 리소그래피 시스템을 개발하며 반도체 제조 기술에서 중요한 진전을 이루고 있는 것으로 전해졌습니다. 이 개발은 다양한 연구소와 기업의 대규모 투자에 힘입은 것으로, …
2024-09-16 10:18 | 댓글: 0개상하이 마이크로일렉트로닉스 장비(SMEE)가 극자외선(EUV) 리소그래피 기계에 대한 특허를 출원하며, 중국의 EUV 반도체 제조 능력 개발에 중요한 이정표가 되었습니다. 2023년 3월에 제출된 이 특허는 EUV 도구의 핵심 구성 요소, 특히 레이저로 …
2024-09-13 14:45 | 댓글: 0개TSMC는 이달 말 대만 신주에 위치한 연구개발 센터에서 첫 번째 하이-NA EUV 리소그래피 장비인 ASML Twinscan EXE:5000의 설치를 시작할 예정입니다. 이 결정은 TSMC가 이미 하이-NA EUV 기계를 연구 및 개발에 …
2024-09-10 12:19 | 댓글: 0개네덜란드 정부가 ASML의 첨단 침수 리소그래피 시스템에 대한 수출 통제를 시행하기로 한 최근 결정에 대해 중국이 불만을 표명했습니다. 반도체 제조의 핵심 기업인 ASML은 새로운 규제에도 불구하고 중국 기업에 대한 사업 …
2024-09-08 17:37 | 댓글: 0개네덜란드 정부가 ASML의 침지식 자외선(DUV) 팹 도구, 특히 칩 제조업체들, 특히 중국에서 널리 사용되는 Twinscan NXT:1970i 및 1980i 모델에 대한 수출 통제를 재확보했습니다. 이 변화는 ASML이 이제 미국 정부 대신 …
2024-09-06 15:20 | 댓글: 0개네덜란드 정부가 미국과 협력하여 구형 ASML 칩 제조 기계에 대한 새로운 수출 통제를 시행하며, 중국으로의 선적에 네덜란드 라이선스를 요구하게 되었습니다. 이 결정은 중국 기업인 SMIC가 7나노미터 칩을 생산하는 데 필수적인 …
2024-09-06 10:48 | 댓글: 0개러시아 기업들이 2022년과 2023년 동안 ASML의 1990년대 반도체 제조 기계의 부품을 성공적으로 확보했습니다. 이는 유럽의 제재로 인해 러시아에 고급 기계 판매가 금지된 상황에서도 이루어진 일입니다. 이 부품들은 중국의 대리인을 통해 …
2024-09-05 14:04 | 댓글: 0개2024년 상반기 중국은 반도체 제조 장비에 250억 달러라는 기록적인 투자를 단행하며, 미국, 한국, 대만의 총 지출을 초과했습니다. 이 막대한 지출은 미국과 그 동맹국들이 첨단 칩 기술 접근에 대한 제한을 강화하는 …
2024-09-02 16:10 | 댓글: 0개미국은 네덜란드에 ASML의 중국 관련 운영을 제한하도록 계속 압박을 가하고 있습니다. 보도에 따르면, 새로운 네덜란드 정부는 이에 따를 것으로 보이며, 연말까지 DUV 시스템에 대한 특정 예외가 만료될 것으로 예상됩니다. ASML의 …
2024-08-30 09:25 | 댓글: 0개네덜란드 정부는 ASML이 중국에서 고급 웨이퍼 제조 장비를 서비스하는 능력을 제한할 계획이며, 이는 중국의 반도체 생산 능력에 상당한 타격을 줄 수 있습니다. 이 금지가 시행될 경우, 중국의 반도체 선두주자인 SMIC는 …
2024-08-29 16:03 | 댓글: 0개중국은 2024년 7월까지 약 260억 달러 규모의 반도체 제조 장비를 수입하며 새로운 기록을 세웠습니다. 이는 2021년의 250억 달러를 초과한 수치입니다. 이러한 수입 증가의 주된 원인은 미국의 제재로 인해 첨단 기술에 …
2024-08-25 17:57 | 댓글: 0개중국은 2024년 7월까지 약 260억 달러 규모의 반도체 제조 장비를 수입하며 새로운 기록을 세웠습니다. 이는 2021년의 250억 달러를 초과한 수치입니다. 이러한 수입 급증은 미국의 제재로 인해 첨단 기술에 대한 접근이 …
2024-08-25 17:57 | 댓글: 0개중국 기업들이 반도체 생산 장비에 대한 투자를 대폭 늘리며, 올해 첫 7개월 동안 거의 260억 달러를 지출한 것으로 블룸버그가 보도했습니다. 이 지출은 2021년의 이전 최고치를 넘어서는 새로운 기록을 세우며, 이들 …
2024-08-22 12:46 | 댓글: 0개ASML의 최고경영자 Christophe Fouquet는 중국의 반도체 생산이 글로벌 수요 충당에 있어 핵심적인 역할을 한다고 강조했습니다. 하지만 중국은 미국 대비 첨단 칩 기술이 10년 뒤쳐져 있다고 지적했습니다. Fouquet에 따르면, 유럽은 현재 …
2024-08-19 07:25 | 댓글: 0개삼성전자가 내년 1분기까지 첫 High-NA EUV 노광 장비를 도입할 것으로 보여, 반도체 산업에 있어 중요한 전환점이 될 것으로 예상됩니다. 이번 도입은 인텔과 TSMC가 이미 ASML로부터 다수의 High-NA EUV 노광 장비를 …
2024-08-17 07:00 | 댓글: 0개삼성은 2024년 말에서 2025년 초 사이에 첫 번째 고NA(수치 구경) EUV 노광기를 설치할 준비를 하고 있습니다. 이 장비는 0.55 수치 구경을 갖추고 있어, 차세대 공정 기술을 위한 연구 개발에 주로 …
2024-08-15 15:40 | 댓글: 0개Imec은 ASML과 협력하여 ASML의 Twinscan EXE:5000 EUV 노광기를 이용해 논리 회로와 DRAM 패턴을 처음으로 성공적으로 인쇄하는 중요한 이정표를 달성했습니다. 이 EUV 노광 시스템은 업계 최초의 High-NA EUV 스캐너로, 단일 노광으로 …
2024-08-08 14:00 | 댓글: 0개임엑스는 ASML과 협력하여 0.55 수치구경(NA)을 지원하는 트윈스캔 EXE:5000 EUV 리소그래피 툴을 이용해 업계 최초로 로직 및 DRAM 구조물을 성공적으로 패턴화했습니다. 이는 마이크로일렉트로닉스 생산에 있어 중요한 이정표를 마련한 성과로, 고해상도 패터닝 …
2024-08-07 15:41 | 댓글: 0개