2024년 상반기 중국은 반도체 제조 장비에 250억 달러라는 기록적인 투자를 단행하며, 미국, 한국, 대만의 총 지출을 초과했습니다. 이 막대한 지출은 미국과 그 동맹국들이 첨단 칩 기술 접근에 대한 제한을 강화하는 …

미국은 네덜란드에 ASML의 중국 관련 운영을 제한하도록 계속 압박을 가하고 있습니다. 보도에 따르면, 새로운 네덜란드 정부는 이에 따를 것으로 보이며, 연말까지 DUV 시스템에 대한 특정 예외가 만료될 것으로 예상됩니다. ASML의 …

네덜란드 정부는 ASML이 중국에서 고급 웨이퍼 제조 장비를 서비스하는 능력을 제한할 계획이며, 이는 중국의 반도체 생산 능력에 상당한 타격을 줄 수 있습니다. 이 금지가 시행될 경우, 중국의 반도체 선두주자인 SMIC는 …

중국은 2024년 7월까지 약 260억 달러 규모의 반도체 제조 장비를 수입하며 새로운 기록을 세웠습니다. 이는 2021년의 250억 달러를 초과한 수치입니다. 이러한 수입 증가의 주된 원인은 미국의 제재로 인해 첨단 기술에 …

중국은 2024년 7월까지 약 260억 달러 규모의 반도체 제조 장비를 수입하며 새로운 기록을 세웠습니다. 이는 2021년의 250억 달러를 초과한 수치입니다. 이러한 수입 급증은 미국의 제재로 인해 첨단 기술에 대한 접근이 …

중국 기업들이 반도체 생산 장비에 대한 투자를 대폭 늘리며, 올해 첫 7개월 동안 거의 260억 달러를 지출한 것으로 블룸버그가 보도했습니다. 이 지출은 2021년의 이전 최고치를 넘어서는 새로운 기록을 세우며, 이들 …

ASML의 최고경영자 Christophe Fouquet는 중국의 반도체 생산이 글로벌 수요 충당에 있어 핵심적인 역할을 한다고 강조했습니다. 하지만 중국은 미국 대비 첨단 칩 기술이 10년 뒤쳐져 있다고 지적했습니다. Fouquet에 따르면, 유럽은 현재 …

삼성전자가 내년 1분기까지 첫 High-NA EUV 노광 장비를 도입할 것으로 보여, 반도체 산업에 있어 중요한 전환점이 될 것으로 예상됩니다. 이번 도입은 인텔과 TSMC가 이미 ASML로부터 다수의 High-NA EUV 노광 장비를 …

삼성은 2024년 말에서 2025년 초 사이에 첫 번째 고NA(수치 구경) EUV 노광기를 설치할 준비를 하고 있습니다. 이 장비는 0.55 수치 구경을 갖추고 있어, 차세대 공정 기술을 위한 연구 개발에 주로 …

Imec은 ASML과 협력하여 ASML의 Twinscan EXE:5000 EUV 노광기를 이용해 논리 회로와 DRAM 패턴을 처음으로 성공적으로 인쇄하는 중요한 이정표를 달성했습니다. 이 EUV 노광 시스템은 업계 최초의 High-NA EUV 스캐너로, 단일 노광으로 …

임엑스는 ASML과 협력하여 0.55 수치구경(NA)을 지원하는 트윈스캔 EXE:5000 EUV 리소그래피 툴을 이용해 업계 최초로 로직 및 DRAM 구조물을 성공적으로 패턴화했습니다. 이는 마이크로일렉트로닉스 생산에 있어 중요한 이정표를 마련한 성과로, 고해상도 패터닝 …

최근 중국을 겨냥한 새로운 미국 무역 규제 발표로 기술 기업들 사이에 온도차가 생겼다. 일부 기업은 안도의 숨을 내쉬는 반면, 다른 기업들은 불확실성에 직면했다. 특히 제조 기술에 대한 예외가 있음에도 불구하고, …

미국 정부는 중국 반도체 기업에 대한 반도체 제조 장비 수출 제한을 강화하는 새로운 규제를 준비하고 있습니다. 다만 일본, 네덜란드, 한국 등 주요 동맹국에 대해서는 예외를 허용할 계획입니다. 이번 규제는 기존의 …