인텔이 오하이오 리킹 카운티에 두 개의 반도체 제조 시설을 건설하기 위해 약 280억 달러를 투자한다고 발표했습니다. 이번 투자는 오하이오에서의 최대 민간 부문 투자로, 인텔의 미국 내 제조 능력 확장을 위한 전략의 일환입니다. 이 발표는 인텔이 CHIPS 법안에 따라 연방 보조금 85억 달러를 확보하기 위한 노력의 일환으로, 상무부의 특정 이정표 충족 요구로 인해 지연되고 있는 상황에서 이루어졌습니다.
오하이오 투자 외에도 인텔은 국방부의 안전한 구역 프로그램으로부터 35억 달러의 직접 자금을 지원받아 방위 목적을 위한 고급 반도체 제조를 촉진하고 있습니다. 또한, 아폴로 글로벌이 인텔에 최대 50억 달러를 투자할 준비를 하고 있어 사모펀드의 강한 관심을 나타내고 있습니다.
수익성을 개선하기 위해 인텔은 2024년과 2025년의 연구개발(R&D) 및 관리 비용을 각각 200억 달러와 175억 달러로 제한하는 등 비용 절감 조치를 시행하고 있습니다. 또한, 2024년에는 총 자본 지출(CapEx)을 250억 달러에서 270억 달러 사이로, 2025년에는 200억 달러에서 230억 달러 사이로 줄일 계획입니다. 추가로, 인텔은 배당금을 중단하고, 폴란드와 독일의 건설을 중단하며, 말레이시아의 새로운 공장 개장을 연기했습니다.
이번 오하이오의 새로운 시설은 인텔의 40년 만의 첫 주요 생산 사이트로, 애리조나, 뉴멕시코, 오리건에 위치한 기존 미국 반도체 공장을 확장하는 것입니다. 이 전략적 결정은 인텔의 제조 기반을 강화하고 시장 수요에 부응하기 위한 것으로, 현재 진행 중인 반도체 공급망 문제를 고려한 것입니다.
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