인텔이 일본의 첨단산업과학기술연구소(National Institute of Advanced Industrial Science and Technology, AIST)와 협력하여 첨단 반도체 생산에 전념하는 새로운 연구개발 센터를 설립합니다. 이 시설은 3년에서 5년 내에 운영될 예정이며, 극자외선(EUV) 리소그래피를 활용한 공정 기술에 중점을 둘 것입니다.
이 연구개발 센터의 설립에는 수억 달러의 투자가 필요하며, 각 EUV 리소그래피 기계의 가격은 약 2억 달러에 달합니다. 이 센터는 일본 내 다양한 산업 참여자 간의 협업을 촉진하여, 그들이 EUV 장비를 공동으로 사용하여 프로토타입 제작 및 테스트를 수행할 수 있도록 할 것입니다. 이 이니셔티브는 일본의 반도체 설계자들이 최첨단 공정 기술을 채택할 수 있도록 하여 경쟁력을 강화하는 것을 목표로 하고 있습니다.
현재 많은 일본 기업들은 벨기에의 IMEC와 같은 외국 연구 센터에 의존하여 EUV 장비에 접근하고 있습니다. 새로운 국내 시설은 이러한 의존도를 줄이고 개발 프로세스를 가속화하며 일본 반도체 산업의 전반적인 위상을 개선할 것으로 기대됩니다.
Lasertec와 JSR과 같은 일본 기업들은 이미 EUV 기술의 특정 분야에서 선두주자로 자리 잡고 있으며, Lasertec는 EUV 검사 장비 시장에서 우위를 점하고 있고, JSR은 반도체 생산을 위한 포토레지스트에서 뛰어난 성과를 보이고 있습니다. 인텔은 이들 기업과의 협력을 통해 새로운 연구개발 센터에서 자사의 역량을 강화하고 일본의 글로벌 반도체 공급망 내 위치를 향상시키는 것을 목표로 하고 있습니다.
또한, 이 파트너십은 미국과 중국 간의 긴장이 고조되는 가운데 전략적으로 중요한 의미를 갖습니다. 특히 EUV 기술에 대한 수출 통제와 관련하여 일본이 이러한 도전에 대응할 수 있도록 돕는 국내 EUV 시설은 반도체 개발의 보안성과 효율성을 높일 것입니다.
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