츠무로 신타케 교수는 오키나와 과학기술 대학원 대학(Okinawa Institute of Science and Technology, OIST)에서 전통적인 EUV 리소그래피 기술을 크게 단순화한 새로운 시스템을 소개했습니다. 이 혁신적인 시스템은 기존 6개의 미러 구성 대신 2개의 미러만 사용하여 광학 성능을 크게 향상시키고 제조 비용을 낮췄습니다.
새로운 광학 경로를 통해 초기 EUV 에너지의 10% 이상이 웨이퍼에 도달할 수 있게 되었는데, 이는 기존 시스템의 약 1% 효율에 비해 상당한 개선입니다. OIST 팀은 EUV 리소그래피의 두 가지 핵심 과제인 광학 수차와 효율적인 광 전달을 해결했습니다.
'이중 라인 필드' 방식을 통해 광마스크를 조명하면서도 광학 경로를 방해하지 않아 실리콘 웨이퍼에 더욱 정밀한 이미지를 구현할 수 있습니다. 이 최소화된 설계는 신뢰성을 높이고 유지보수 및 전력 소비를 감소시킵니다. 기존 시스템이 1MW를 넘나드는 것에 비해 이 새로운 시스템은 20W의 EUV 광원과 100kW 미만의 총 전력 소비로 작동합니다.
OIST는 이 기술의 특허를 출원했으며, 실제 반도체 생산에 활용하기 위한 추가 개발을 계획하고 있습니다. 이는 칩 생산 비용과 반도체 제조의 환경적 영향을 해결하는 데 있어 중요한 진전으로 평가됩니다. 또한 2024년 88억 달러에서 2030년 174억 달러로 성장이 예상되는 글로벌 EUV 리소그래피 시장에서 이 기술의 활용 가능성이 높을 것으로 기대됩니다.
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