입자 가속기를 1,000배 축소할 계획, 반도체 제조 속도를 15배 향상시킬 수 있다 - 인버전 반도체, 페타와트 레이저를 이용한 '테이블탑' 입자 가속기 제안

전문: https://www.tomshardware.com/tech-industry/semiconductors/plans-to-...

원저자: | 작성일: 2025-06-09 17:09
사이트 내 게시일: 2025-06-09 22:47
Y Combinator의 지원을 받는 스타트업 인버전 반도체가 기존 모델보다 1,000배 작은 컴팩트 입자 가속기를 개발하고 있습니다. 이 '테이블탑' 가속기는 반도체 제조를 위한 강력한 광원 생성이 목표이며, 생산 속도를 15배 향상시키거나 여러 도구를 동시에 작동시켜 비용을 절감할 수 있는 가능성을 가지고 있습니다. 이 기술은 레이저 웨이크필드 가속화(LWFA)에 의존하며, 페타와트급 레이저를 사용하여 짧은 거리에서 고에너지 전자를 생성합니다. 인버전의 광원은 10 kW의 출력을 예상하고 있으며, 이는 향후 10년간 ASML이 계획한 극자외선(EUV) 광원을 크게 초과하는 수치입니다.

LWFA 방법은 20nm에서 6.7nm 사이의 파장을 가진 일관된 단색 방사선을 생성할 수 있으며, 현재 ASML의 리소그래피 도구에서 사용되는 13.5nm 빛도 포함됩니다. 그러나 인버전은 복잡하고 비싼 레이저 시스템의 필요성, 새로운 리소그래피 도구 개발, 그리고 기술에 적합한 생태계 구축 등 여러 가지 중대한 도전에 직면해 있습니다. 이 회사는 파트너십을 시작하고 프로토타입 작업을 진행하고 있지만, 대량 생산 도구에 대한 경험 부족으로 인해 야심찬 목표를 달성할 수 있을지에 대한 우려가 제기되고 있습니다.

인버전의 즉각적인 목표는 X선 이미징 및 반도체 검사와 같은 응용 분야를 위한 고출력 조정 가능한 광원을 만드는 것이며, 리소그래피에서 빛을 유도하기 위한 고급 거울 시스템 개발도 포함됩니다. 유망한 기술에도 불구하고, 실용적인 구현을 위한 경로는 짧은 파장을 위한 새로운 광학 및 재료의 필요성, 기존 리소그래피 장비와의 시스템 통합 등 기술적 및 물류적 장애물로 가득 차 있습니다. 전반적으로 인버전 반도체의 계획은 혁신적이지만, 반도체 제조 환경의 복잡성으로 인해 실행 가능성은 불확실합니다.

* 이 글은 tomshardware.com의 기사를 요약한 것입니다. 전체 기사의 내용은 이곳에서 확인하실 수 있습니다.
카테고리: ETC
태그: innovation (212) ASML (65) EUV lithography (42) chipmaking (37) semiconductor technology (11) Inversion Semiconductor (1) particle accelerators (1) laser wakefield acceleration (1) light sources (1)

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